Masca pentru minimizarea porilor cu acid succinic Madagascar Centella Poremizing Clarifying
Masca pentru minimizarea porilor cu acid succinic Madagascar Centella Poremizing Clarifying Skin1004 - Ajuta la curatarea porilor si la imbunatatirea texturii pielii, oferind un aspect mai neted si mai uniform. Formula combina Centella Asiatica cu saruri minerale si acizi exfolianti pentru a sustine indepartarea excesului de sebum si a impuritatilor, contribuind la diminuarea vizibila a porilor. Actiunea delicata a acizilor AHA, BHA, PHA si LHA ajuta la exfolierea stratului superficial si la curatarea in profunzime, fara a irita pielea. In acelasi timp, ingredientele calmante si hidratante mentin confortul pielii si sustin echilibrul acesteia, oferind o senzatie de prospetime si fermitate. Potrivita inclusiv pentru tenul sensibil, masca ajuta la obtinerea unui aspect mai clar si mai rafinat al pielii.
Mod de utilizare: Aplica masca pe fata curata si tonifiata, evitand zona ochilor si a gurii si las-o sa actioneze 10-20 de minute. Indeparteaza masca si maseaza usor esenta ramasa pana la absorbtie completa.
Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Butylene Glycol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Caprylyl Glycol, Arginine, Centella Asiatica Extract, 1,2-Hexanediol, Adenosine, Pentylene Glycol, Xanthan Gum, Propanediol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Succinic Acid, Lactobacillus/Hibiscus Sabdariffa Flower Ferment Filtrate, Citric Acid, Tromethamine, Betaine Salicylate, Glycolipids, Gluconolactone, Mentha Arvensis Leaf Oil, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Collagen, Mineral Salts, Capryloyl Salicylic Acid.
Lista de ingrediente poate suferi modificari din partea furnizorului. Pentru informatia actualizata, consulta ambalajul produsului.
Masca pentru minimizarea porilor cu acid succinic Madagascar Centella Poremizing Clarifying Skin1004 - Ajuta la curatarea porilor si la imbunatatirea texturii pielii, oferind un aspect mai neted si mai uniform. Formula combina Centella Asiatica cu saruri minerale si acizi exfolianti pentru a sustine indepartarea excesului de sebum si a impuritatilor, contribuind la diminuarea vizibila a porilor. Actiunea delicata a acizilor AHA, BHA, PHA si LHA ajuta la exfolierea stratului superficial si la curatarea in profunzime, fara a irita pielea. In acelasi timp, ingredientele calmante si hidratante mentin confortul pielii si sustin echilibrul acesteia, oferind o senzatie de prospetime si fermitate. Potrivita inclusiv pentru tenul sensibil, masca ajuta la obtinerea unui aspect mai clar si mai rafinat al pielii.
Mod de utilizare: Aplica masca pe fata curata si tonifiata, evitand zona ochilor si a gurii si las-o sa actioneze 10-20 de minute. Indeparteaza masca si maseaza usor esenta ramasa pana la absorbtie completa.
Water, Dipropylene Glycol, Glycerin, Glycereth-26, Butylene Glycol, Panthenol, Hydroxyacetophenone, Polyglyceryl-10 Laurate, Carbomer, Caprylyl Glycol, Arginine, Centella Asiatica Extract, 1,2-Hexanediol, Adenosine, Pentylene Glycol, Xanthan Gum, Propanediol, Ethylhexylglycerin, Allantoin, Sodium Hyaluronate, Disodium EDTA, Succinic Acid, Lactobacillus/Hibiscus Sabdariffa Flower Ferment Filtrate, Citric Acid, Tromethamine, Betaine Salicylate, Glycolipids, Gluconolactone, Mentha Arvensis Leaf Oil, Dipotassium Glycyrrhizate, Hydrolyzed Collagen, Mineral Salts, Capryloyl Salicylic Acid.
Lista de ingrediente poate suferi modificari din partea furnizorului. Pentru informatia actualizata, consulta ambalajul produsului.